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DIFFUSION Datenblatt, PDF

Gesuchtes Schlüsselwort : 'DIFFUSION' - Total: 418 (1/21) Pages
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KODENSHI_AUK CORP.
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Orange colored diffusion lens
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Diffusion type silicon diode
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DIFFUSION-TYPE SILICON DIODE
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Diffusion type Silicon diode
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KODENSHI_AUK CORP.
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Milky Diffusion lens type
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Silicon NPN triple diffusion planar type(Silicon NPN triple diffusion planar type)
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Nihon Inter Electronics...
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Diffusion-type Sillicon Rectifier Diode
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KODENSHI_AUK CORP.
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Red colored diffusion lens type
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Silicon NPN triple diffusion type
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Hi-Sincerity Mocroelect...
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NPN TRIPLE DIFFUSION PLANAR TRANSISTOR
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Panasonic Semiconductor
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Silicon NPN triple diffusion mesa type
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Silicon NPN triple diffusion planar type
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Silicon NPN triple diffusion planar type
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Silicon NPN triple diffusion mesa type
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Silicon NPN triple diffusion planar type
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Silicon NPN triple diffusion planar type
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Silicon NPN triple diffusion planer type
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Silicon NPN triple diffusion planar type
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Asahi Kasei Microsystem...
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EMI Countermeasure Spectrum Scan Diffusion IC
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Nell Semiconductor Co.,...
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258Kb/5P
Silicon NPN triple diffusion planar transistor

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Was ist DIFFUSION


In elektronischen Komponenten ist 'Diffusion' eines der Halbleiterherstellungsprozesse, was bedeutet, dass Ionen oder Atome in Halbleitermaterialien injizieren, um gewünschte Materialien zu bilden. Die Diffusion wird verwendet, um die Verteilung von Dopingmaterialien innerhalb von Halbleitergeräten zu kontrollieren oder Halbleiterregionen mit gewünschten Eigenschaften zu bilden.

Die Diffusion besteht aus den folgenden Schritten:

Reinigung: Verfeinerung von Halbleiter Rohstoffen und Vorbereitung von Komponenten in einem sauberen Zustand. Dieser Prozess sorgt für einen genauen Diffusionsprozess, indem Verunreinigungen entfernt und das Halbleitersubstrat sauber gehalten werden.

Maskierung: Während des Diffusionsprozesses wird ein Maskierungsmaterial verwendet, um das Substrat zu schützen, um die gewünschte Halbleiterregion zu definieren. Die Maskierung schränkt den Bereich so ein, dass die Diffusion nur dort auftritt.

Diffusion: Injizieren Sie das gewünschte Material mit Diffusionsausrüstung in das Substrat. Ionen oder Atome dringen in die Oberfläche des Halbleitersubstrats ein und diffundieren in das Substrat, um die Konzentration der Substanz zu kontrollieren. Diffusionszeit und Temperatur sind wichtige Parameter, die die Diffusionsrate und Konzentration einer Substanz bestimmen.

Reverse Diffusion und Reinigung: Sobald die Diffusion vollständig ist, wird unerwünschtes Material unter Verwendung der Reverse -Diffusions- oder Diffusionsgeräte entfernt. Dieser Schritt wird durchgeführt, um das Halbleitersubstrat zu reinigen.

Die Diffusion ist einer der wichtigsten Schritte im Halbleiterherstellungsprozess und beeinflusst die elektrischen Eigenschaften und den Betrieb von Halbleitergeräten. Insbesondere wird die Diffusion für wichtige Aufgaben verwendet, z.

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